一、CMP介绍
随着科技发展,芯片广泛应用于各个领域,为了实现各类繁复功能,通常需要在芯片上排布数公里的导线和上千万乃至上亿的晶体管(显微镜下见下图),制作难度不亚于在一平方厘米的平台上建造一座城市。
为了实现每道工艺的精确性和可靠性,需要确保晶圆表面的平坦化。CMP(化学机械抛光)作为其中的关键技术,利用化学腐蚀和机械摩擦,去除晶圆表面的微小不规则。
CMP过程可能会在晶圆表面留下各种污染物,包括抛光液中的磨料颗粒、化学残留物等。这些残留物如果不被彻底清除,将直接影响芯片的可靠性和寿命,因此CMP后清洗环节至关重要。而如何在彻底清除残留物的同时,保证晶圆表面不被划伤也成为需要考虑的问题。
二、PVA清洗刷辊
PVA,又名聚乙烯醇,发泡后内部形成相互连通的多孔结构。吸水性强,吸水后柔软且富有弹性,可有效移除清洁表面附着的颗粒,同时不产生划痕;自身洁净度高,无颗粒掉落,本身不会对清洁表面造成污染;优异的耐化学性和防静电性,可适应半导体制造工艺中使用的各种化学品,因此被广泛用于半导体制造的各个阶段,包括晶圆清洗、设备维护和洁净室表面清洗等。
PVA清洗刷辊由PVA棉与内杆组成:内杆与机台相连,通过其中空结构及表面出水孔,将清洗液均匀分散至清洗刷;PVA棉表面有许多凸起,通过随内杆稳定旋转,将清洗液输送至晶圆表面并带走表面污染物。
三、市场现状及前景
近年来,中国半导体行业蓬勃发展,PVA清洗刷辊作为核心耗材,市场规模也增长迅速。海外为了制衡中国半导体产业的崛起,相继实施全面限制措施,海外PVA清洗刷辊的出口也逐渐呈现紧缩趋势,且存在价格歧视。目前,中国PVA清洗刷辊100%依靠进口,大陆暂无企业可实现产业化生产,国产化进程刻不容缓。
四、科睿迅——国产化半导体材料提供商
科睿迅(上海)材料科技有限公司,成立于2023年,作为创新且专注的先进半导体材料提供商,围绕各类半导体耗材提供完整解决方案。
CreationTM PVA清洗刷辊全面对标海外成熟产品,研发团队拥有30余年相关产品开发经验,可满足各类机台要求,并提供持续的产品迭代开发支持。
目前已通过CMP设备商工艺验证,稳定性等指标达到海外高端产品同等水平,目前可实现小批量生产供货。
量产工厂建设中,预计10月建成开车。
工厂将严格采用精益生产管理模式,配备百级洁净室,以确保生产的稳定性与超高洁净度,满足半导体行业标准。
除了芯片外,随着对终端产品性能要求的提升,硅片的清洗,也对清洗材质有了更高的要求,基于客户诉求,我们开发了系列以PVA胶棉为核心部件的晶圆接触式半导体清洗器件,目前正在多产品化开发过程中,部分半导体耗材及配件, 已实现相关CMP以及清洗设备厂商验证以及Fab厂供货。
欢迎相关企业与我们联系,我们将提供送样检测、小批量供货、定制开发、进口产品采购等系列服务。
“科技领先、睿智学习、迅速发展”的创造性公司——科睿迅:We Creation
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